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GTVA高功率RF GaN on SiC HEMT - MACOM
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MACOM GTVA高功率RF GaN on SiC HEMT
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Wolfspeed/Cree GTVA高功率射頻碳化矽基氮化鎵HEMT為採用碳化矽基氮化鎵技術的50V高電子遷移率電晶體 (HEMT)。碳化矽基氮化鎵裝置可提供高功率密度,並具備高崩潰電壓,可用於製造高效率的功率放大器。GTVA高功率射頻碳化矽基氮化鎵HEMT採用輸入匹配、高效率且經過熱強化的封裝。這些脈衝/連續波 (CW) 裝置的脈寬為128 µs,工作週期為10%。
特點
碳化矽基氮化鎵 (GaN on SiC) HEMT技術
輸入匹配
人體放電模式1C等級(符合AnSI/ESDA/JEDEC JS-001)汲極作業電壓 (VDD):50V
封裝選項:
H-36248-2
H-37248-2
無鉛,符合RoHS標準
應用
航空電子裝置
國防
高功率放大器
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H-36248-2封裝尺寸
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MACOM
發佈日期: 2019-04-29 | 更新日期: 2024-01-19