Infineon Technologies CoolGaN™氮化鎵HEMT

Infineon CoolGaN™氮化鎵HEMT相比矽提供卓越優勢,包括終極效率、可靠性、功率密度和最高品質。CoolGaN晶體管採用最可靠技術製造,設計用於為開關模式電源提供最高效率和功率密度。該裝置與傳統矽MOSFET原理相似,透過p-GaN閘極結構實現增強模式閘極驅動偏置。

Infineon CoolGaN的特性非常適合硬切換與軟切換拓撲。CoolGaN可為PFC調整更簡單的半橋拓撲,包括消除有損輸入橋式整流器。CoolGaN HEMT為功率半導體裝置提供更高的臨界電場,實現優異的高速切換。

特點

  • 600V功率裝置品質因數
  • 非常適合硬切換與軟切換拓撲
  • 功率密度可提升三倍
  • 針對開啟與關閉進行最佳化
  • 全新拓撲與電流調變
  • 快速(接近零損耗)的切換
  • 最高的功率密度可提供小型輕量化設計
  • 可實現創新解決方案與大量生產的技術
  • 極低的RDS(on) 與極高的降低成本潛力
  • SMPS的最高效率
  • 零反向恢復充電
  • 相較於Si技術:
    • 高10倍的崩潰電場及高2倍的移動性
    • 低10倍的輸出電荷
    • 低10倍的閘極電荷與線性的Coss特性
  • 表面黏著封裝可確保完全發揮GaN的切換能力
  • 易用性及吸引人的驅動器IC產品組合

應用

  • 伺服器
  • 電信
  • 超大規模資料中心
  • 無線充電
  • SMPS(交換式電源供應器)
  • 配接器與充電器

影片

FB圖騰柱電路說明圖

圖表 - Infineon Technologies CoolGaN™氮化鎵HEMT

成功的四大支柱

圖表 - Infineon Technologies CoolGaN™氮化鎵HEMT

資質認證說明圖

圖表 - Infineon Technologies CoolGaN™氮化鎵HEMT

SMPS說明圖

圖表 - Infineon Technologies CoolGaN™氮化鎵HEMT
發佈日期: 2018-10-26 | 更新日期: 2024-05-07